産品系列
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  各种磁控溅射纯金属及合金靶材,纯度高、密度高、組織結構优良、使用寿命长。拥有两项国家授权专利:采用最先进工艺生产的纯金属Cr靶(专利号:ZL 93 1 01604.5)和科学先进新颖的靶材结构设计(专利号:ZL 99 2 43973.6)。産品规格齐全,包括圆形、环形、矩形和管形等各种形状,尺寸可根据用户的要求定制。生产的靶材广泛应用于大面积装饰玻璃镀膜、耐磨镀膜、电子行业CD、VCD等各类光碟以及各种磁碟镀膜等。産品市场占有率高,并远销美国、日本及台湾等国家和地区。

靶材名稱 元素符號 純度(%) 密度(g/cm3) 熔點(℃)
鉻靶 Cr 99.95 7.18 1875
銀靶 Ag 99.99 10.5 960
金靶 Au 99.99 19.3 1064
钽靶 Ta 99.99 16.6 2996
钴靶 Co 99.95 8.9 1495
矽靶 Si 99.999 2.33 1410
鎢靶 W 99.9 19.6 3300
钼靶 Mo 99.9 10.3 2600
铌靶 Nb 99.9 8.57 2468
锆靶 Zr 99.9 6.50 1852
鎳靶 Ni 99.95 8.9 1453
钛靶 Ti 99.5 4.50 1668
镍鉻靶 NiCr 99.95 隨成分變 隨成分變
鎳釩靶 NiV 99.95 隨成分變 隨成分變
钴鉻靶 CoCr 99.95 隨成分變 隨成分變
钴镍鉻靶 CoNiCr 99.95 隨成分變 隨成分變
钴鉻钽靶 CoCrTa 99.95 隨成分變 隨成分變
钴鎳钽靶 CoNiTa 99.95 隨成分變 隨成分變
铁镍矽靶 FeNiSi 99.9 隨成分變 隨成分變
铬矽靶 CrSi 99.9 隨成分變 隨成分變
不鏽鋼靶 FeNiCr 316L 7.8 1425
還可以根據用戶要求生産各種純金屬及合金靶材
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